使用超过1200℃的高温，QuickCOD®能将样品中的所有组分完全燃烧。在这样的高温下，样品被完全氧化，确保了COD的准确测量。即使最稳定的化合物也能被测量出。燃烧气体由反应器经一个4℃的气体冷却器冷却，然后流经一个吸收柱，最后进入气体分析器。气体分析器检测到一个峰信号。内置的微处理器会计算该峰的面积。

■系统组成:LGA-3000分布式激光过程气体分析系统主要由中央单元和各通道测量单元组成。

■中央单元:主要由信号转换模块和人机交互模块等组成，可实现对各测量通道的数据处理、集中控制和网络通讯等功能，并支持盘装和壁挂两种安装方式。

■测量单元:主要由发射单元、接收单元和吹扫单元等组成，可实现激光驱动、信号采集和光学视窗保护等功能。

   突破性的微板流路控制技术,它为您提供了所需的一切，包括先进的分离能力, 强效的新功能和仪器智能化实时自监测，从而将您实验室的GC和GC/MS性能提升到一个新水平。更快的柱箱降温速率和更强的反吹功能,使您的分析时间更短, 样品的分析成本更低。

   美国热电集团最新推出了一款专用于半导体晶片分析的傅立叶变换红外光谱系统——Nicolet ECO/RS，该系统采用了热电集团最新的傅立叶变换红外光谱平台——Nicolet 6700。 众所周知，傅立叶变换红外光谱技术对于半导体加工而言，是一种理想的检测手段。而半导体加工无论是对于原材料还是工艺过程都有着严格的控制要求，需要能够对于纯度超过99.999%的材料进行检测，并且检测尺度主要是在纳米级。而作为一种快速、无损的检测技术，傅立叶变换红外光谱仪既可用于相关企业的质检实验室，也可用于现场以监控生产过程中搀杂剂在硅片中的均一性。由于硅有非常好的红外透过性，因此傅立叶变换红外技术在此方面的应用包括：针对外延生长的晶体薄膜、微机电系统（MEMS）设备和绝缘硅（SOI）材料的厚度测量，硅晶体中间隙氧和取代碳含量的测定以及介电薄膜表征等。 此外，该型产品采用了热电集团新一代 ETC EverGlo 红外源，在提供稳定信号的同时，极大延长了红外源的使用寿命。为了应付以前难以处理的红外样品，还新增加了一个 Turbo Mode 功能。敷金的光学器件和全新设计的光路系统则极大增强了光信号通量。

   小型系统直接从自来水产生I级水Direct-Q 5实验室水纯化系统是为每日超纯水用量为5至15L，但又不能获得有质量保证的预处理水做进水的研究人员而设计的装置。这种设计紧凑的静音系统可直接从自来水以 0.6L/min 的的流速生产超纯（I 级)水。Direct-Q 系统性能特征通过压力、温度和电阻率传感器进行自动监控，并清晰地显示在系统显示屏上,该显示屏还指示用户何时应当进行日常维护。